抛光工艺的影响

　　①温度：温度升高，加强了抛光液化学反应能力，抛光速率增加。但过高的温度会引起抛光液的挥发，以及加快化学反应，表面腐蚀严重，因而会产生不均匀的抛光效果，使抛光质量下降。

　　②pH值：抛光液的pH值越高，碱性越强，反应速率越快。但pH值对被抛表面刻蚀、磨料的分解与溶解度、抛光液的稳定性有很大的影响， 从而影响材料的去除率和表面质量， 因此应严格控制。

　　③压力：一般地，压力越大，抛光速率越快。但是压力足够大时，抛光速率会略微下降，原因是压力大，抛光垫承载抛光液能力下降。另外，压力大易形成破片现象。

　　④转速：转速增加，会引起抛光速率增加。但转速过高又会使抛光液在抛光垫上分布不均匀，影响抛光质量。

　　⑤抛光液浓度：抛光液的浓度增加时，去除率也随之增加，但当磨粒浓度超过某一值时，材料去除率将停止增加，维持一个常数值，这种现象称为去除饱和。而且过高的浓度，有可能造成表面缺陷(划痕)增加，影响表面质量。